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OPMS-2000F全自动磁控溅射光学机

产品优势
产品应用
AR、AS/AF、硬质AR膜、硬质膜、手机屏、汽车中控屏等
产品特点
◆双工艺室,高 效率镀膜
◆ 可形成高密度光学薄膜
◆ 可对膜组成和膜厚进行高精度控制
◆ 低温成膜,支持各种应用
◆ 可镀制混合膜、中间折射率膜
◆ AF自动成膜系统
◆工艺管理系统
产品参数
类别项目参数详情
规格转鼓交换室SUS304,(长)3200 mm×(宽)2620 mm×(高)2160 mm
镀膜工艺室SUS304,(长)2610 mm×(宽)2090 mm×(高)2160 mm
性能转鼓转速10~120rpm(可变)
进出料室抽速≤15min(大气压~2.0×10⁻¹Pa)
工艺室抽速≤15min(大气压~2.0×10⁻¹Pa)
极限真空度≤6.0×10⁻³Pa
溅射靶材Nb, Si, Cr, Al, Ti, ITO ...
配置夹具系统Φ2000mm,转鼓型,10 转 / 分 - 120 转 / 分(可变)
挂板13-36 个
溅射源双旋转阴极磁控靶 (可选平面阴极磁控靶)
排气系统机械泵,罗茨泵,分子泵;深冷捕集泵
真空控制系统真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计
反应离子源RF-ICP 电感耦合射频离子源
AF 膜系统电阻蒸发源 + 自动硅烷供应系统
充气系统气体流量计
控制系统PC+PLC
电源系统三相,380V±10%,总容量 1000kVA,50/60Hz
工作条件冷却水流量 15T/h;温度 20-25℃
压缩空气0.5 MPa - 0.7 MPa
外形尺寸12000mm(宽)×14000mm(深)×3640mm(高)
重量约 70T