| 类别 | 项目 | 参数详情 |
|---|---|---|
| 规格 | 真空室 | SUS304,Φ1300mm×1610mm(H) |
| 工件架尺寸 | Φ1130mm | |
| 工件架转速 | 0-30rpm (可变) | |
| 膜厚检测装置 | 多点晶振传感器 + 膜厚控制仪 | |
| 蒸发源 | 电子枪 2 套 + IGBT 电源 | |
| 离子源 | 17cm RF 离子源 | |
| 排气系统 | 机械泵 + 分子泵(扩散泵)+ 深冷捕集泵 | |
| 性能 | 极限真空度 | 7.0×10⁻⁴Pa 以下 |
| 排气时间 | 15min(大气压~1.3×10⁻³Pa) | |
| 基板温度 | 最高:350℃ | |
| 工作条件 | 设备尺寸 | 约 5000mm (W)×6500mm (D)×3500mm (H) |
| 电源 | 3 相,380v,50Hz,总容量约 120kVA | |
| 冷却水 | 水流量 9m³/h,温度 20℃-25℃ | |
| 空气压力 | 0.6-0.7MPa 以上 | |
| 重量 | 约 8500kg |