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JSDH 系列多弧磁控溅射复合镀膜设备

产品优势
应用领域
五金、钟表、手机屏、手机中框、显示屏、医疗器械、陶瓷、玻璃
产品特点
磁控溅射镀膜机主要用于装饰性和功能性反应薄膜具有沉积速率高,反应速度快等优点,彻底克服了阴极靶表面中毒和异常辉光放电等现象。
◆在金属和非金属基片上镀制单层膜、多层复合膜等。配置升级后的阴极磁控靶及电源。
根据客户需要可选弧靶、平面靶、圆柱靶、李生靶离子源等。

产品参数
主要技术参数JSDH-1300JSDH-1400JSDH-1500JSDH-1600JSDH-1680
设备型号JSDH-1300JSDH-1400JSDH-1500JSDH-1600JSDH-1680
真空室Φ1300×H1200mmΦ1400×H1200mmΦ1500×H1200mmΦ1600×H1200mmΦ1680×H1200mm
工件架6 杆 - 18 杆 或定制6 杆 - 24 杆 或定制
工件转速公转 0~10rpm
抽气系统机械泵 + 罗茨泵 + 维持泵 + 分子泵(扩散泵)
加热器管状加热器 300℃(zui高温度 300℃)
极限真空6.0×10⁻⁴Pa (空载)
抽气时间大气~6.0×10⁻³Pa ≤15min (空载)
偏压电源单极脉冲偏压电源或双极脉冲偏压电源
磁控阴极圆柱靶,中频电源或直流电源
溅射阴极多弧靶
充气系统多路充气系统
操作控制触控屏一体机
设备尺寸约 4200mm (长)×3500mm (宽)×2500mm (高)约 4200mm (长)×3500mm (宽)×2800mm (高)约 4500mm (长)×4000mm (宽)×2800mm (高)约 4500mm (长)×4500mm (宽)×2800mm (高)
电力三相五线制:380V/50HZ 功率:50KW~80KW
冷却水 (压强 / 温度)0.2~0.3Mpa/20℃~25℃(工业软水、去离子水)
空气压力0.5-0.8Mpa (干燥)